招标代理公司（立即查看） 受业主单位（立即查看） 委托，于2025-11-04在采购与招标网发布 ITER屏蔽模块外委加工服务-变更公告。现邀请全国供应商参与投标，有意向的单位请及时联系项目联系人参与投标。 GG（略）e3ac（略）d-e（略）c-f（略）-f8b4-f（略）c8bab（略）-（略）-（略）:（略）:（略）谈判公告发布时间：（略）-（略）-（略）:（略）:（略） 一、谈判项目基本信息      谈判项目名称     ITER屏蔽模块外委加工服务      谈判项目编号     DEC（略）Z（略）      项目（略）     详见采购文件。项目资金来源   自筹项目采购单位（略）      项目代理机构   （略）      二、项目概况和采购范围      详见（略）信息      三、报价人资格条件      收到邀请的合格供方   四、谈判文件的获取      获取开始时间      （略）-（略）-（略）:（略）:（略）获取方法      访问（略）址：https:（略）。（略）径：（略）--供应商自助--商机库（略）界面获取谈判文件。      五、（略）的递交      递交截止时间     （略）-（略）-（略）:（略）:（略）递交方法      访问（略）址：https:（略）。（略）径：（略）--供应商自助--投标报价界面提交（略）。     六、联系方式      公告发布媒介      此公告仅在（略）进行（略）站转载并发布的非完（略）或修改版公告，而导致误（略）或无效（略）的情形，采购人及代理机构不予承担责任。   联系人及电话     青经理  （略）-（略）七、其它公告内容      详见采购文件。采购商品信息：物料描述需求数量单位交货期屏蔽模块SB（略）AITER-SB（略）-DR（略）；ITER-SB（略）-DR（略）ST（略）,（略）各端面及接口最终加工;（略）完成后端面其它螺孔的加工;（略）抛光、清理毛刺1件（略）-（略）-（略）屏蔽模块SB（略）AITER-SB（略）-DR（略）；ITER-SB（略）-DR（略）ST（略）,（略）各端面及接口最终加工;（略）完成后端面其它螺孔的加工;（略）抛光、清理毛刺1件（略）-（略）-（略）屏蔽模块SB（略）AITER-SB（略）-DR（略）；ITER-SB（略）-DR（略）ST（略）,（略）各端面及接口最终加工;（略）完成后端面其它螺孔的加工;（略）抛光、清理毛刺1件（略）-（略）-（略）屏蔽模块SB（略）AITER-SB（略）-DR（略）；ITER-SB（略）-DR（略）ST（略）,（略）各端面及接口最终加工;（略）完成后端面其它螺孔的加工;（略）抛光、清理毛刺1件（略）-（略）-（略）屏蔽模块SB（略）AITER-SB（略）-DR（略）；ITER-SB（略）-DR（略）ST（略）,（略）各端面及接口最终加工;（略）完成后端面其它螺孔的加工;（略）抛光、清理毛刺1件（略）-（略）-（略）屏蔽模块SB（略）AITER-SB（略）-DR（略）；ITER-SB（略）-DR（略）ST（略）,（略）各端面及接口最终加工;（略）完成后端面其它螺孔的加工;（略）抛光、清理毛刺1件（略）-（略）-（略）屏蔽模块SB（略）ADLLITER-SB（略）-DR（略）；ITER-SB（略）-DR（略）ST（略）,（略）各端面及接口最终加工;（略）完成后端面其它螺孔的加工;（略）抛光、清理毛刺1件（略）-（略）-（略）屏蔽模块SB（略）BITER-SB（略）-DR（略）；ITER-SB（略）-DR（略）ST（略）,（略）各端面及接口最终加工;（略）完成后端面其它螺孔的加工;（略）抛光、清理毛刺1件（略）-（略）-（略）屏蔽模块SB（略）BITER-SB（略）-DR（略）；ITER-SB（略）-DR（略）ST（略）,（略）各端面及接口最终加工;（略）完成后端面其它螺孔的加工;（略）抛光、清理毛刺1件（略）-（略）-（略）屏蔽模块SB（略）BITER-SB（略）-DR（略）；ITER-SB（略）-DR（略）ST（略）,（略）各端面及接口最终加工;（略）完成后端面其它螺孔的加工;（略）抛光、清理毛刺1件（略）-（略）-（略）屏蔽模块SB（略）BITER-SB（略）-DR（略）；ITER-SB（略）-DR（略）ST（略）,（略）各端面及接口最终加工;（略）完成后端面其它螺孔的加工;（略）抛光、清理毛刺1件（略）-（略）-（略）屏蔽模块SB（略）BITER-SB（略）-DR（略）；ITER-SB（略）-DR（略）ST（略）,（略）各端面及接口最终加工;（略）完成后端面其它螺孔的加工;（略）抛光、清理毛刺1件（略）-（略）-（略）屏蔽模块SB（略）BITER-SB（略）-DR（略）；ITER-SB（略）-DR（略）ST（略）,（略）各端面及接口最终加工;（略）完成后端面其它螺孔的加工;（略）抛光、清理毛刺1件（略）-（略）-（略）屏蔽模块SB（略）BITER-SB（略）-DR（略）；ITER-SB（略）-DR（略）ST（略）,（略）各端面及接口最终加工;（略）完成后端面其它螺孔的加工;（略）抛光、清理毛刺1件（略）-（略）-（略）屏蔽模块SB（略）BNDITER-SB（略）-DR（略）；ITER-SB（略）-DR（略）ST（略）,（略）各端面及接口最终加工;（略）完成后端面其它螺孔的加工;（略）抛光、清理毛刺1件（略）-（略）-（略）屏蔽模块SB（略）NBITER-SB（略）-DR（略）；ITER-SB（略）-DR（略）ST（略）,（略）各端面及接口最终加工;（略）完成后端面其它螺孔的加工;（略）抛光、清理毛刺1件（略）-（略）-（略）屏蔽模块SB（略）NCITER-SB（略）-DR（略）；ITER-SB（略）-DR（略）ST（略）,（略）各端面及接口最终加工;（略）完成后端面其它螺孔的加工;（略）抛光、清理毛刺1件（略）-（略）-（略）屏蔽模块SB（略）NCVITER-SB（略）-DR（略）；ITER-SB（略）-DR（略）ST（略）,（略）各端面及接口最终加工;（略）完成后端面其它螺孔的加工;（略）抛光、清理毛刺1件（略）-（略）-（略）屏蔽模块SB（略）NDITER-SB（略）-DR（略）；ITER-SB（略）-DR（略）ST（略）,（略）各端面及接口最终加工;（略）完成后端面其它螺孔的加工;（略）抛光、清理毛刺1件（略）-（略）-（略）屏蔽模块SB（略）NDLITER-SB（略）-DR（略）；ITER-SB（略）-DR（略）ST（略）,（略）各端面及接口最终加工;（略）完成后端面其它螺孔的加工;（略）抛光、清理毛刺1件（略）-（略）-（略）屏蔽模块SB（略）NDVITER-SB（略）-DR（略）；ITER-SB（略）-DR（略）ST（略）,（略）各端面及接口最终加工;（略）完成后端面其它螺孔的加工;（略）抛光、清理毛刺1件（略）-（略）-（略）屏蔽模块SB（略）NEITER-SB（略）-DR（略）；ITER-SB（略）-DR（略）ST（略）,（略）各端面及接口最终加工;（略）完成后端面其它螺孔的加工;（略）抛光、清理毛刺1件（略）-（略）-（略）屏蔽模块SB（略）AHITER-SB（略）ECH-DR（略）；ITER-SB（略）ECH-DR（略）；ITER-SB（略）-DR（略）ST（略）,（略）各端面及接口最终加工;（略）完成后端面其它螺孔的加工;（略）抛光、清理毛刺1件（略）-（略）-（略）屏蔽模块SB（略）AHITER-SB（略）ECH-DR（略）；ITER-SB（略）ECH-DR（略）；ITER-SB（略）-DR（略）ST（略）,（略）各端面及接口最终加工;（略）完成后端面其它螺孔的加工;（略）抛光、清理毛刺1件（略）-（略）-（略）屏蔽模块SB（略）CHITER-SB（略）ECH-DR（略）；ITER-SB（略）ECH-DR（略）；ITER-SB（略）-DR（略）ST（略）,（略）各端面及接口最终加工;（略）完成后端面其它螺孔的加工;（略）抛光、清理毛刺1件（略）-（略）-（略）屏蔽模块SB（略）CHITER-SB（略）ECH-DR（略）；ITER-SB（略）ECH-DR（略）；ITER-SB（略）-DR（略）ST（略）,（略）各端面及接口最终加工;（略）完成后端面其它螺孔的加工;（略）抛光、清理毛刺1件（略）-（略）-（略）屏蔽模块SB（略）AITER-SB（略）-DR（略）；ITER-SB（略）-DR（略）；ITER-SB（略）-DR（略）ST（略）,（略）~（略），按工序要求机加及抛光、清理毛刺；1件（略）-（略）-（略）屏蔽模块SB（略）AITER-SB（略）-DR（略）；ITER-SB（略）-DR（略）；ITER-SB（略）-DR（略）ST（略）,（略）~（略），按工序要求机加及抛光、清理毛刺；1件（略）-（略）-（略）屏蔽模块SB（略）AITER-SB（略）-DR（略）；ITER-SB（略）-DR（略）；ITER-SB（略）-DR（略）ST（略）,（略）~（略），按工序要求机加及抛光、清理毛刺；1件（略）-（略）-（略）屏蔽模块SB（略）AITER-SB（略）-DR（略）；ITER-SB（略）-DR（略）；ITER-SB（略）-DR（略）ST（略）,（略）~（略），按工序要求机加及抛光、清理毛刺；1件（略）-（略）-（略）屏蔽模块SB（略）AITER-SB（略）-DR（略）；ITER-SB（略）-DR（略）；ITER-SB（略）-DR（略）ST（略）,（略）~（略），按工序要求机加及抛光、清理毛刺；1件（略）-（略）-（略）屏蔽模块SB（略）AITER-SB（略）-DR（略）；ITER-SB（略）-DR（略）；ITER-SB（略）-DR（略）ST（略）,（略）~（略），按工序要求机加及抛光、清理毛刺；1件（略）-（略）-（略）屏蔽模块SB（略）AWITER-SB（略）-DR（略）；ITER-SB（略）-DR（略）；ITER-SB（略）-DR（略）ST（略）,（略）~（略），按工序要求机加及抛光、清理毛刺；1件（略）-（略）-（略）屏蔽模块SB（略）CITER-SB（略）-DR（略）；ITER-SB（略）-DR（略）ST（略）,（略）各端面及接口最终加工;（略）完成后端面其它螺孔的加工;（略）抛光、清理毛刺1件（略）-（略）-（略）屏蔽模块SB（略）CITER-SB（略）-DR（略）；ITER-SB（略）-DR（略）ST（略）,（略）各端面及接口最终加工;（略）完成后端面其它螺孔的加工;（略）抛光、清理毛刺1件（略）-（略）-（略）屏蔽模块SB（略）C1ITER-SB（略）-DR（略）；ITER-SB（略）-DR（略）；ITER-SB（略）-DR（略）ST（略）,（略）各端面及接口最终加工;（略）完成后端面其它螺孔的加工;（略）抛光、清理毛刺1件（略）-（略）-（略）屏蔽模块SB（略）DITER-SB（略）-DR（略）；ITER-SB（略）-DR（略）；ITER-SB（略）-DR（略）ST（略）,（略）各端面及接口最终加工;（略）完成后端面其它螺孔的加工;（略）抛光、清理毛刺1件（略）-（略）-（略）屏蔽模块SB（略）DITER-SB（略）-DR（略）；ITER-SB（略）-DR（略）；ITER-SB（略）-DR（略）ST（略）,（略）